අඛණ්ඩ ලේසර් පිරිසිදු කිරීමේ යන්ත්‍රය

CW ලේසර් පිරිසිදු කිරීමේ යන්ත්‍රයේ යෙදුම් මූලධර්මය ප්‍රකාශ තාප ආචරණය සහ ප්‍රකාශ යාන්ත්‍රික ආචරණය මත පදනම් වේ: අධි ශක්ති ඝනත්ව අඛණ්ඩ ලේසර් කදම්භයක් වැඩ කොටසෙහි මතුපිට විකිරණය කරයි, සහ මතුපිට දූෂක (මලකඩ, තෙල්, ආලේපනය වැනි) ක්ෂණිකව ශක්තිය අවශෝෂණය කර, උෂ්ණත්වයේ වේගවත් වැඩිවීමක්, වාෂ්පීකරණය හෝ සෘජු පීල් කිරීමක් ඇති කරයි, එහි අඩු අවශෝෂණ අනුපාතය හෝ වේගවත් තාප සන්නායකතාවය හේතුවෙන් මූලික ද්‍රව්‍ය නොවෙනස්ව පවතින අතර, එමඟින් ඉහළ නිරවද්‍යතාවයක්, ස්පර්ශ නොවන “සීතල පිරිසිදු කිරීම” ලබා ගනී.